美西制裁开启新局
俄乌冲突以来，美国及其盟友加强了对俄的出口限制，意图遏制其技术进步。尤其是对半导体芯片和光刻机等核心半导体设备实施了严格的出口禁令。这些制裁对俄半导体产业产生了显著影响，迫使俄启动自主光刻机的研发，标志着其自主创新之路的开启。
全球半导体领域，美国及西方国家对俄罗斯的制裁并非首次实施，然而，此次制裁的严厉程度实属罕见。这一举措迫使俄罗斯不得不退出原有的半导体供应链，转而依赖国内资源，并加快了关键技术的研发步伐。
官方宣布生产计划
2023年，俄罗斯副部级官员瓦西里·什帕克在接受媒体采访时披露了关键信息。他表示，俄罗斯将于2024年启动350纳米光刻机的生产工作。此外，他还透露，预计到2026年，将投入使用用于生产130纳米工艺芯片的光刻设备。该信息的公布立即引起了全球半导体行业的广泛关注，标志着俄罗斯自主开发光刻设备的征程正式拉开序幕。
官方声明并非无根据。俄罗斯在面临制裁的背景下，早已制定了周密的半导体产业规划。该规划侧重于逐步推进光刻机的研究与生产。这一行动旨在减少对外国技术的依赖，确保国内半导体产业的持续稳定增长。
首台国产完成测试
2024年5月，俄罗斯塔斯社发布喜讯。在CIPR 2024会议上，瓦西里·什帕克宣布，俄罗斯成功组装了首台自研光刻机。该设备当前在泽列诺格勒接受测试。此设备能够生产350nm级芯片，显示出俄罗斯在光刻技术上的重大突破。
在全球范围内，能够掌握光刻机制造技术的国家和企业数量相当稀少。俄罗斯近期成功研制出350纳米级别的光刻机，这一成就不仅是对美西方制裁的强势反击，同时也彰显了俄罗斯在半导体技术自主研发领域的强大能力。
成熟制程仍具价值
350nm制程技术已发展至成熟阶段，其重要性不容忽视。该技术主要应用于汽车、能源和通信等行业，满足芯片需求。这些行业对芯片的稳定性和可靠性有较高要求，而350nm制程芯片恰好能满足这些需求。
阿纳托利·科瓦列夫，担任莫斯科“泽列诺格勒纳米技术中心”总经理，对此表示赞同。该中心成功研发出全球首台350nm拓扑结构投影式光刻机。该设备技术先进且性能稳定。它能充分满足行业对基础芯片的需求。同时，对俄罗斯相关产业的发展产生了显著的促进作用。
批量生产准备就绪
莫斯科市投资和工业政策局宣布，泽列诺格勒纳米技术中心公司即将推进350nm光刻机的量产。截至2024年12月，该设备已成功通过国家委员会的检测并获得批准。同时，其技术规格也获得了官方认证。基于此，俄罗斯本土生产的光刻机将步入产业化进程。
俄罗斯半导体产业的部分领域预计将借助规模化生产减轻芯片短缺状况。此举亦将促进相关行业的进步。此外，它为俄罗斯在高级光刻机研发方面积累了丰富经验，并对该技术的产业化进程提供了坚实基础。
持续研发未来可期
泽列诺格勒纳米技术中心正在依据第二份国家合同推进130纳米光刻机的研发。该研发工作预计在2026年结束。按照既定计划，2024年俄罗斯政府将拨款2114亿卢布。这笔资金将专门用于支持350nm制程芯片光刻机的研发项目。
俄罗斯正致力于研发350至65纳米的光刻技术，其生产的芯片在市场上占比约60%。尽管面临国际制裁，俄罗斯依靠技术积累和政府支持，有望在半导体领域逐步实现技术自给。在美西方制裁背景下，2026年，俄罗斯能否按时完成130纳米光刻机的研发并投入使用，成为业界关注的焦点。欢迎读者评论分享，也请点赞和转发本文。
