东方晶源智能良率优化系统PME已部署完成，现已步入验证评估环节。该系统凭借其卓越功能，正推动芯片制造领域的变革，为产业升级注入新的活力。
系统部署进展
近期，东方晶源智能的良率优化系统PME已成功在客户现场实施部署。随后，该系统进入了产品验证和评估环节。这一部署标志着系统向实际应用领域迈出了关键步伐。在部署前，研发团队经过多轮测试和调整，确保系统能够满足芯片制造的高复杂度需求。接下来的验证和评估阶段，将全面测试系统的稳定性、准确性和运行效率。
强大配套引擎
PME产品配备了功能强大的底层Pattern Match和Pattern Grouping引擎。这两个引擎对系统而言，犹如左右臂般重要，能够高效执行版图分析与处理任务。与传统方法相比，它们显著减少了处理所需时间。在处理大规模版图时，这些引擎能将效率提升约30%，从而大幅提升工作效率。
检测区域优化
PME是连接芯片设计数据与制造缺陷数据的关键工具。它允许用户根据设计版图信息来设定检测程序。与以往依赖经验参数的传统检测方法不同，PME将设计版图转化为“数字卫星导航地图”。用户可以依据版图进行指定和优化检测程序，从而提高检测区域的配置效率。这种方法使得检测过程既高效又精确。
智能采样分类
芯片制造过程中，关键缺陷的比率较低，其在大规模数据中的定位尤为困难，这增加了复检的费用。过去，检测取样主要依赖工程师的经验和机器算法，难以实现标准化。引入设计版图信息后，能够确立统一的取样标准。同时，版图信息在缺陷分类中的应用，不仅丰富了分类的维度和信息量，还有助于工艺的优化调整。
PWQ分析创新
芯片制造过程中，PWQ晶圆在核心步骤中扮演重要角色，然而，其检测结果的解析主要依赖人工操作，导致效率低下并存在对经验的依赖。东方晶源推出的PME系列产品的PWQ分析模块，运用了D2DB技术，能够精确锁定缺陷并实现自动化检测。通过快速提供反馈，该技术加速了关键环节的迭代和优化，助力用户提高产品良率。
产业助力展望
PME将深度整合东方晶源的其他设备与工具。这将形成一个全面的HPO一体化良率解决方案。该方案旨在为国内晶圆厂提供全面的技术支持。它能有效解决先进工艺节点的良率挑战。同时，此举将促进集成电路产业链的发展，并增强我国产业的国际竞争力。
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